Das Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST beabsichtigt die Beschaffung einer PVD-Beschichtungsanlage für die Abscheidung von Isolationsschichten und Hartstoffschichten mit den aufgeführten Eigenschaften (Los 1) und eine PECVD-Beschichtungsanlage für die Abscheidung von DLC-Schichten und Hartstoffschichten mit den aufgeführten Eigenschaften (Los 2).
Lose (2)
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